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第三百四十三章 跳坑(2 / 5)

田看向白石茉莉奈,小声的在她耳边说道:“白石部长,你认为这些技术怎么样?是否真的应该允许泛翰集团把它们注入合资公司来?”

白石茉莉奈愁眉苦脸的翻看着资料上这些技术的具体介绍,微微叹了口气说道:“鹤田专务,显然这些都是沉浸式光刻的配套技术,如果不允许泛翰集团注入这些技术,那我们的0.25微米光刻机恐怕就要遭遇专利壁垒了。”

“专利壁垒!”鹤田眉头皱起来都快打结了,不可置信的说道:“有人能在光刻机领域里。给尼康设置专利壁垒?白石部长你在开玩笑吗?”

“我也希望是开玩笑。”白石茉莉奈微微摇了摇头,说道:“从这些介绍资料上来看,泛翰集团显然在光刻机沉浸式改造方面非常成熟,并且形成了一整个技术系列。和我们尼康、或者阿斯麦比起来,他们已经走了很远了。”

这是当然,沉浸式光刻技术不keneng是一步到位。在光刻机进入0.18微米工艺之后,这项技术用了十年时间才逐渐完善起来。光是光源就从高压汞灯的g线升级到i线,也就是从436nm升级到365nm波长。然后才是krf准分子激光、arf准分子激光和f2准分子激光,波长也从248nm缩短到157nm。

每一种光源当然都不是拿个灯泡换一下就行了。像光刻机这种高精尖设备可谓是牵一而发动全身。光源改变,你滤光系统要不要变?对准系统要不要变?你光刻胶的成分要不要变?

甚至,在0.35微米光刻机的基础上改造0.25微米工艺,如何利用和挖掘现有系统的潜力?

这对二十年后自己实验室里就有一台光刻机的周硕来说。成熟的、广泛应用新技术的光刻机他才是最熟悉的。让他真的去在二十年前的系统上,慢慢改造出沉浸式光刻技术,反而是强人所难的行为。

这就好像把现在的大学生扔到十九世纪末。他的科学知识肯定是世界顶级学者的水

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