光刻机又名:掩模对准曝光机,常用的光刻机是掩膜对准光刻,是制造大规模集成电路的核心装备,每颗芯片诞生之初,都要经过光刻技术锻造,简单地说,光刻机是把工程师的设计‘刻印’在基底材料-硅片,在2—3平方厘米的方寸之地集成数十亿晶体管。 br>
光刻机‘刻印’处理过的硅片再经过蚀刻机加工,通过化学反应,物理撞击作用移除废弃‘硅片’的废弃部分,再经历某些封装工艺,神硅片材料变废为宝,变成价值高昂的-电子芯片。
因为周兴的关系5纳米级蚀刻极量产可期,光刻机成为众人心的重之重,如果光刻机再有所突破,那么芯片领域会和高铁领域一样,突破西方国家封堵完成弯道超车。
“不过什么?有话快说,别卖关子。”严教授瞪着周兴,催促地问:
“光刻机我是有研究过,不过,暂时没别的想法。”周兴看了严教授一眼,淡淡地说:
闻言,在场众人面色一松,露出意料之的神色,脸又带了一丝遗憾,神色复杂。
5纳米级蚀刻机的量产工艺被周兴攻克,如果连光刻机也被周兴突破了,那他的研发能力未免也太吓人了。
光刻机可蚀刻机复杂多了,芯片的核心是光刻机,光刻机的核心是镜头,目前世界主流的光刻机还是深紫外侵入式光刻机,这个技术的极限是14纳米级以,10纳米以下的光刻机则要用到极紫外光刻(euv)技术,这项技术即使国外巨头都尚处于实验室向商业化发展的阶段,鸿沟般的巨大差距不是轻易能跨越的。
众人失望之余,又觉得理所当然。
“暂时没别的想法?你的意思是你还是有想法的咯?”与其他人不一样,严教授格外留意周兴的回答,步步紧逼地问:
“严老,我们还是先把蚀刻机量产工艺拿下再说吧!研发嘛,总要一步一步来,不要好高骛远嘛!”迎着严教授探究的目光,周兴神秘地笑
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