第697章 直奔浸润式光刻（2 / 4）

不可能的。但问题就在于，尼康的光刻机，同型号的差异实在太大了。

最优秀的光刻机，稼动率能够到90%，但最差的，或许就只有50，60%。

目前，获得了来自飞利浦和intel大力支援的asml，虽然还是在制造krf光刻机，但他们光刻机的稳定性就大大超过了尼康佳能，一条生产线的稼动率甚至可以长期稳定在90%以上。

至于鸿芯这边，根据统计，稼动率是在70%到80%左右浮动，和尼康佳能差不多。

“只有慢慢来，我们现在只有尽量优化流程，提高零部件标准，然后再细细打磨。”苏远山这边提到稼动率，郑振川也一阵烦恼。双工件台是好，但如果无法通过长时间的流水线生产的验证，那也仅仅只是弥补缺陷罢了。

“嗯，没事。”苏远山点点头：“工艺打磨可以慢慢来。我们本身就落后几十年，现在是强行追上来的，有缺陷和不稳定很正常，慢慢吸取教训，慢慢进步就是了。但研发不能慢下来。”

“我希望你们直接就与林，赵团队合作，直接跳过单纯的arf光刻机……或者说，直接协同研发跨越193nm的光刻机！”

他话音落下，这边曲慧和沈浩然马上便是一惊！

“小山，你的意思是林博士他们解决了下一代光源了？”曲慧由于长年累月呆在鸿芯这边，早已经对光刻机技术和发展了如指掌，知道目前国内虽然由赵凯东那边实现了arf光源的突破，但arf在国外可是好几年前就已经突破了……而且人家早就意识到了193nm的arf激光将会是光刻机发展的一个重要节点——这也是国产光刻机追上世界的重要机会。

但人家意识得造，就意味着布局得早。尼康早就拉了一帮人在搞157nm的f2准分子光源不说，老美那边更是牛逼，国家能源局亲自下场，组建了一支豪华的阵容直接瞄准了最低可到10nm波长的极紫外光源euv。