料研究所所长马知力、神光仪器总裁高致远、激光实验室主任秦长歌,还有光机所的合作组组长刘瑞新,都围绕着一台光刻机在调试设备。
黄明哲走过来问道:“情况如何?”
“社长,我们上午测试了两次,光刻出来的光栅可以达到10纳米和9纳米,现在正在调试8纳米级别。”高致远兴奋的回道。
而来支援神光仪器的刘瑞新此时也是晕乎乎的,他之前只知道神光仪器在研发x射线光刻机,却没有想到神光仪器已经做到这个地步。
国内的上沪中微电子的情况,光机所一清二楚,毕竟双方经常有合作,现在国内可以实现的光刻机,其精度最多只有40纳米。
而这个名不见经传的神光仪器,却一步登天,成功将光刻精度推进到10纳米之内,一举反超阿斯麦公司超紫外光光刻机的13.7纳米。
现在国内的蚀刻机并不弱于外国,也就是说神光仪器的光刻机,一下填补了华国芯片制造行业的两个致命弱点,光刻机和光刻胶。
显然神光仪器前途不可限量。
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